Foto- positiv- beschichtetes Basismaterial

30 Jahre Präzision 
in Perfektion     
                                            
Das gleichbleibend hohe Qualitätsniveau unseres foto-positiv-beschichtetem Basismaterials garantiert höchste Verarbeitungssicherheit.
Einfache Handhabung durch gleichbleibende Prozesszeiten beim Belichten und Entwickeln sichern die präzise und fehlerfreie Fertigung Ihrer Kleinserien mit perfektem Ergebnis.

Basismaterial:
Wir verarbeiten grundsätzlich erste Wahl geprüft bzw. mit Freigabe nach NEMA, MIL, UL, IEC und DIN ist unser selbstverständlicher Standard. 
Wir liefern alle gängigen Materialtypen von FR4, FR3, CEM1 bis FR2 in Stärken von 0,5 bis 3 mm und Kupferauflagen 18, 35, 70 oder 105µ in ein- oder doppelseitiger Ausführung.
Lagerformate sind alle Europaformate und Grossformate 510 x 570 oder
510 x 1200 mm. Sonderzuschnitte nach Kundenwunsch.

Eigenschaften der Fotoschicht:
Die Beschichtung erfolgt nach neuester Verfahrenstechnik mit einem speziellen Positiv-Flüssigresist eigener Rezeptur mit einer Schichtdicke von 5 µ. Das Resist zeichnet sich durch hohe Beständigkeit, große Verarbeitungsspielräume 
bei einem kontraststarken optischen Auflösungsvermögen bis unter 30µ aus. Die Lichtempfindlichkeit liegt zwischen 350 und 450 nm. Die größte spektrale Lichtempfindlichkeit wird bei 365 nm erreicht, das entspricht dem Einsatzbereich
aller gängigen UV Röhren- und Punktlichtbelichtungsgeräte.
Das beschichtete Material ist mit einer selbstklebenden Papierabdeckung zum Schutz vor Vorbelichtung oder mechanischer Beschädigung versehen.
Die Belichtungszeit beträgt 60- 90 sek. bezogen auf unsere Präzisionsbelichtungsgeräte. Die Entwicklungszeit beträgt 45- 90 sek. bei 15- 20°C kaltem Entwicklerbad.
So ergeben sich gleiche Bearbeitungszeiten beim Belichten, Entwickeln und Ätzen mit unserem Basismaterial, Geräten und Maschinen.

Weitere Information und Datenblätter
über Anfrage